01 උණු කළ පහත වැටීමේ ගුරුත්වාකර්ෂණය
ඕනෑම වස්තුවක් එහි ගුරුත්වාකර්ෂණය නිසා එල්ලා වැටීමේ ප්‍රවණතාවක් ඇත. පැතලි වෑල්ඩින්හිදී, ලෝහ උණු කළ බිංදු වල ගුරුත්වාකර්ෂණය උණු කළ බිංදු සංක්රමණය කිරීම ප්රවර්ධනය කරයි. කෙසේ වෙතත්, සිරස් වෑල්ඩින් සහ උඩිස් වෑල්ඩින් වලදී, උණු කළ ජල බිඳිතිවල ගුරුත්වාකර්ෂණය උණු කළ ජල බිඳිති උණු කළ තටාකයට සංක්රමණය වීමට බාධාවක් වන අතර එය බාධාවක් බවට පත්වේ.
02 මතුපිට ආතතිය
අනෙකුත් ද්රව මෙන්, ද්රව ලෝහයට පෘෂ්ඨික ආතතියක් ඇත, එනම් බාහිර බලයක් නොමැති විට, ද්‍රවයේ මතුපිට ප්රමාණය අවම කර රවුමකට හැකිලෙනු ඇත. දියර ලෝහ සඳහා, මතුපිට ආතතිය උණු කළ ලෝහ ගෝලාකාර කරයි.
ඉලෙක්ට්රෝඩ ලෝහය උණුවීමෙන් පසුව, එහි ද්රව ලෝහය ක්ෂණිකව වැටෙන්නේ නැත, නමුත් මතුපිට ආතතියේ ක්රියාකාරිත්වය යටතේ ඉලෙක්ට්රෝඩයේ අවසානයේ එල්ලෙන ගෝලාකාර බිංදු සාදයි. ඉලෙක්ට්රෝඩය අඛණ්ඩව දියවන විට, උණු කළ ජල බිඳිති මත ක්රියා කරන බලය උණු කළ ජල බිඳිති සහ වෙල්ඩින් හරය අතර ඇති ආතතිය ඉක්මවා යන තෙක් උණු කළ ජල බිඳිති පරිමාව අඛණ්ඩව වැඩි වන අතර උණු කළ බිංදුව වෙල්ඩින් හරයෙන් කැඩී යයි. සහ උණු කළ තටාකයට මාරු වීම. එබැවින්, පැතලි වෑල්ඩින් තුළ උණු කළ ජල බිඳිති සංක්රමණය කිරීම සඳහා මතුපිට ආතතිය හිතකර නොවේ.
කෙසේ වෙතත්, උඩිස් වෑල්ඩින් වැනි වෙනත් ස්ථානවල වෑල්ඩින් කිරීමේදී උණු කළ ජල බිඳිති මාරු කිරීම සඳහා මතුපිට ආතතිය ප්රයෝජනවත් වේ. පළමුව, උණු කළ තටාක ලෝහය මතුපිට ආතතියේ ක්රියාකාරිත්වය යටතේ වෑල්ඩය මත උඩු යටිකුරු එල්ලා වැටෙන අතර එය බිංදු කිරීමට පහසු නොවේ;
දෙවනුව, ඉලෙක්ට්රෝඩයේ අවසානයේ ඇති උණු කළ බිංදුව උණු කළ තටාක ලෝහයට සම්බන්ධ වන විට, උණු කළ තටාකයේ මතුපිට ආතතියේ ක්රියාකාරිත්වය හේතුවෙන් උණු කළ ජල බිඳිති උණු කළ තටාකයට ඇද දමනු ලැබේ.
පෘෂ්ඨීය ආතතිය වැඩි වන තරමට වෙල්ඩින් හරය අවසානයේ උණු කළ බිංදුව විශාල වේ. මතුපිට ආතතියේ විශාලත්වය බොහෝ සාධක සමඟ සම්බන්ධ වේ. නිදසුනක් ලෙස, ඉලෙක්ට්රෝඩයේ විෂ්කම්භය විශාල වන අතර, ඉලෙක්ට්රෝඩයේ අවසානයේ උණු කළ ජල බිඳිති මතුපිට ආතතිය වැඩි වේ;
ද්රව ලෝහයේ උෂ්ණත්වය වැඩි වන තරමට එහි මතුපිට ආතතිය කුඩා වේ. ආවරණ වායුවට ඔක්සිකාරක වායුව (Ar-O2 Ar-CO2) එකතු කිරීමෙන් ද්රව ලෝහයේ මතුපිට ආතතිය සැලකිය යුතු ලෙස අඩු කළ හැකි අතර එය උණු කළ තටාකයට මාරු කිරීම සඳහා සිහින් අංශු උණු කළ ජල බිඳිති සෑදීමට හිතකර වේ.
03 විද්යුත් චුම්භක බලය (විද්යුත් චුම්භක හැකිලීමේ බලය)
ප්රතිවිරුද්ධයන් ආකර්ෂණය වන අතර, එම නිසා සන්නායක දෙක එකිනෙකා ආකර්ෂණය කරයි. සන්නායක දෙක ආකර්ෂණය කරන බලය විද්යුත් චුම්භක බලය ලෙස හැඳින්වේ. දිශාව පිටත සිට ඇතුළත දක්වා වේ. විද්යුත් චුම්භක බලයේ විශාලත්වය සන්නායක දෙකේ ධාරා වල ගුණිතයට සමානුපාතික වේ, එනම් සන්නායකය හරහා ගමන් කරන ධාරාව වැඩි වන තරමට විද්යුත් චුම්භක බලය වැඩි වේ.
වෑල්ඩින් කිරීමේදී, ආරෝපිත වෙල්ඩින් වයරය සහ වෙල්ඩින් වයර් අවසානයේ ඇති ද්රව බිංදු බොහෝ ධාරා ගෙන යන සන්නායක වලින් සමන්විත යැයි අපට සැලකිය හැකිය.
මේ ආකාරයට ඉහත සඳහන් කළ විද්යුත් චුම්භක ආචරණ මූලධර්මය අනුව වෙල්ඩින් වයරය සහ ජල බිඳිති ද සෑම පැත්තකින්ම කේන්ද්‍රය දක්වා රේඩියල් හැකිලීමේ බලයට යටත් වන බව තේරුම් ගැනීම අපහසු නැත, එබැවින් එය විද්යුත් චුම්භක සම්පීඩන බලය ලෙස හැඳින්වේ.
විද්යුත් චුම්භක සම්පීඩන බලය වෙල්ඩින් සැරයටියේ හරස්කඩ හැකිලීමට නැඹුරු වේ. විද්යුත් චුම්භක සම්පීඩන බලය වෙල්ඩින් සැරයටියේ ඝන කොටසට බලපෑමක් නැත, නමුත් එය වෙල්ඩින් සැරයටිය අවසානයේ ඇති ද්රව ලෝහයට විශාල බලපෑමක් ඇති කරයි, එමඟින් බිංදු ඉක්මනින් සෑදීමට පොළඹවයි.
ගෝලාකාර ලෝහ බිංදුව මත, විද්යුත් චුම්භක බලය එහි මතුපිට සිරස් අතට ක්රියා කරයි. විශාලතම ධාරා ඝනත්වය ඇති ස්ථානය ජල බිඳිතිවල තුනී විෂ්කම්භය කොටස වනු ඇත, එය විද්යුත් චුම්භක සම්පීඩන බලය වැඩිපුරම ක්රියා කරන ස්ථානය ද වනු ඇත.
එමනිසා, බෙල්ල ක්‍රමයෙන් තුනී වන විට, වත්මන් ඝනත්වය වැඩි වන අතර, විද්යුත් චුම්භක සම්පීඩන බලයද වැඩි වන අතර, එමඟින් ද්‍රව්‍ය බිඳුව ඉක්මනින් ඉලෙක්ට්රෝඩයේ කෙළවරින් කැඩී ගොස් උණු කළ තටාකයට මාරු වීමට පොළඹවයි. උණු කළ බිංදුව ඕනෑම අවකාශීය ස්ථානයක දියවීමකට සුමටව සංක්රමණය විය හැකි බව මෙය සහතික කරයි.
Xinfa වෙල්ඩින් උපකරණ උසස් තත්ත්වයේ සහ අඩු මිලෙහි ලක්ෂණ ඇත. විස්තර සඳහා, කරුණාකර පිවිසෙන්න:වෙල්ඩින් සහ කැපුම් නිෂ්පාදකයින් - චීනය වෙල්ඩින් සහ කැපුම් කම්හල සහ සැපයුම්කරුවන් (xinfatools.com)
අඩු වෙල්ඩින් ධාරාව සහ වෙල්ඩින් යන අවස්ථා දෙකේදී, ජල බිඳිති සංක්‍රාන්තිය මත විද්යුත් චුම්භක සම්පීඩන බලයේ බලපෑම වෙනස් වේ. වෙල්ඩින් ධාරාව අඩු වන විට, විද්යුත් චුම්භක බලය කුඩා වේ. මෙම අවස්ථාවේදී, වෙල්ඩින් වයර් අවසානයේ ඇති ද්රව ලෝහය ප්රධාන වශයෙන් බල දෙකකින් බලපාන අතර, එකක් මතුපිට ආතතිය වන අතර අනෙක ගුරුත්වාකර්ෂණය වේ.
එබැවින්, වෑල්ඩින් වයරය දිගටම දියවී යන විට, වෙල්ඩින් වයර් අවසානයේ එල්ලෙන ද්රව බිංදු පරිමාව දිගටම වැඩි වේ. පරිමාව යම් දුරකට වැඩි වන අතර එහි ගුරුත්වාකර්ෂණය මතුපිට ආතතිය ජය ගැනීමට ප්රමාණවත් වන විට, ජල බිඳිති වෙල්ඩින් වයර් වලින් කැඩී ගුරුත්වාකර්ෂණ ක්රියාකාරිත්වය යටතේ උණු කළ තටාකයට වැටේ.
මෙම අවස්ථාවේ දී, ජල බිඳිති ප්රමාණය බොහෝ විට විශාල වේ. එවැනි විශාල බිංදුවක් චාප පරතරය හරහා ගමන් කරන විට, චාපය බොහෝ විට කෙටි-පරිපථයක් වන අතර, එහි ප්රතිඵලයක් වශයෙන් විශාල ස්ප්ලෑෂ් ඇති අතර, චාප පිළිස්සීම ඉතා අස්ථායී වේ. වෙල්ඩින් ධාරාව විශාල වන විට, විද්යුත් චුම්භක සම්පීඩන බලය සාපේක්ෂව විශාල වේ.
ඊට වෙනස්ව, ගුරුත්වාකර්ෂණ භූමිකාව ඉතා කුඩා වේ. ද්රව බිංදුව ප්රධාන වශයෙන් විද්යුත් චුම්භක සම්පීඩන බලයේ ක්රියාකාරිත්වය යටතේ කුඩා ජල බිඳිති සහිත උණු කළ තටාකයට සංක්රමණය වන අතර දිශානතිය ශක්තිමත් වේ. පැතලි වෑල්ඩින් ස්ථානය හෝ උඩිස් වෑල්ඩින් ස්ථානය කුමක් වුවත්, බිංදු ලෝහය සෑම විටම චුම්බක ක්ෂේත්‍ර සම්පීඩන බලයේ ක්රියාකාරිත්වය යටතේ චාප අක්ෂය දිගේ වෙල්ඩින් වයර් සිට උණු කළ තටාකය දක්වා සංක්රමණය වේ.
වෑල්ඩින් අතරතුර, ඉලෙක්ට්රෝඩය හෝ වයර් මත වත්මන් ඝනත්වය සාමාන්යයෙන් සාපේක්ෂ වශයෙන් විශාල වේ, එබැවින් විද්යුත් චුම්භක බලය වෑල්ඩින් අතරතුර උණු කළ ජල බිඳිති සංක්රමණය කිරීම ප්රවර්ධනය කරන ප්රධාන බලයකි. ගෑස් ආවරණ සැරයටිය භාවිතා කරන විට, තාක්ෂණයේ ප්රධාන මාධ්යයක් වන වෙල්ඩින් ධාරාවෙහි ඝනත්වය සකස් කිරීම මගින් උණු කළ ජල බිඳිති ප්රමාණය පාලනය වේ.
වෙල්ඩින් යනු චාපය වටා ඇති විද්යුත් චුම්භක බලයයි. ඉහත සඳහන් කළ බලපෑම් වලට අමතරව, චුම්බක ක්ෂේත්‍ර තීව්‍රතාවයේ අසමාන ව්‍යාප්තිය මගින් ජනනය වන බලය වන තවත් බලයක් ද නිපදවිය හැකිය.
ඉලෙක්ට්රෝඩ ලෝහයේ ධාරා ඝනත්වය වෑල්ඩින් ඝනත්වයට වඩා වැඩි නිසා ඉලෙක්ට්රෝඩය මත ජනනය වන චුම්බක ක්ෂේත්‍ර තීව්‍රතාවය වෑල්ඩයේ ජනනය වන චුම්බක ක්ෂේත්‍ර තීව්‍රතාවයට වඩා වැඩි බැවින් ඉලෙක්ට්රෝඩයේ කල්පවත්නා දිශාව ඔස්සේ ක්ෂේත්‍ර බලයක් ජනනය වේ. .
එහි ක්‍රියාකාරී දිශාව වන්නේ ඉහළ චුම්භක ක්ෂේත්‍ර තීව්‍රතාවයක් (ඉලෙක්ට්රෝඩය) ඇති ස්ථානයේ සිට අඩු චුම්බක ක්ෂේත්‍ර තීව්‍රතාවයකින් (වෑල්ඩින්) ස්ථානය දක්වා වන අතර, එම නිසා වෑල්ඩයේ අවකාශීය පිහිටීම කුමක් වුවත්, එය උණු කළ සංක්‍රාන්තියට සැමවිටම හිතකර වේ. උණු කළ තටාකයට බිංදුවක්.
04 ධ්රැව පීඩනය (ස්ථාන බලය)
වෙල්ඩින් ආර්කයේ ආරෝපිත අංශු ප්රධාන වශයෙන් ඉලෙක්ට්රෝන සහ ධන අයන වේ. විද්යුත් ක්ෂේත්‍රයේ ක්රියාකාරිත්වය හේතුවෙන් ඉලෙක්ට්රෝන රේඛාව ඇනෝඩය දෙසට ගමන් කරන අතර ධන අයන කැතෝඩය දෙසට ගමන් කරයි. මෙම ආරෝපිත අංශු ධ්රැව දෙකේ දීප්තිමත් ලප සමඟ ගැටී ජනනය වේ.
DC ධනාත්මකව සම්බන්ධ වූ විට, ධන අයනවල පීඩනය උණු කළ බිංදු සංක්රමණයට බාධා කරයි. DC ප්‍රතිලෝමව සම්බන්ධ වූ විට, උණු කළ ජල බිඳිති සංක්රමණය වීමට බාධා කරන්නේ ඉලෙක්ට්‍රෝනවල පීඩනයයි. ධන අයනවල ස්කන්ධය ඉලෙක්ට්රෝන වලට වඩා වැඩි බැවින් ධන අයන ප්‍රවාහයේ පීඩනය ඉලෙක්ට්රෝන ප්‍රවාහයට වඩා වැඩි වේ.
එබැවින්, ප්‍රතිලෝම සම්බන්ධතාවය සම්බන්ධ වූ විට සියුම් අංශු සංක්‍රාන්තිය නිපදවීම පහසු වන නමුත් ධනාත්මක සම්බන්ධතාවය සම්බන්ධ වූ විට එය පහසු නොවේ. මෙය විවිධ ධ්රැව පීඩන නිසාය.
05 වායු පිඹින බලය (ප්ලාස්මා ප්‍රවාහ බලය)
අතින් චාප වෑල්ඩින් කිරීමේදී, ඉලෙක්ට්රෝඩ ආලේපනය උණු කිරීම වෙල්ඩින් හරයේ දියවීමට වඩා තරමක් පසුගාමී වන අතර, ආලේපනය අවසානයේ දී තවමත් දිය වී නැති "ට්‍රම්පට්" හැඩැති අත් වල කුඩා කොටසක් සාදයි.
ආවරණ වායුකාරකයේ වියෝජනය මගින් ජනනය වන වායු විශාල ප්රමාණයක් සහ ආවරණයේ වෙල්ඩින් හරය තුළ කාබන් මූලද්රව්ය ඔක්සිකරණය වීමෙන් ජනනය වන CO වායුව පවතී. මෙම වායූන් ඉහළ උෂ්ණත්වයකට රත් වීම නිසා වේගයෙන් ප්‍රසාරණය වන අතර, දිය නොවූ ආවරණයේ දිශාව දිගේ කෙළින්ම (කෙළින්ම) සහ ස්ථායී වාත ප්‍රවාහයකින් වේගයෙන් ගමන් කරයි, උණු කළ ජල බිඳිති උණු කළ තටාකයට හමා යයි. වෑල්ඩයේ අවකාශීය පිහිටීම කුමක් වුවත්, මෙම වායු ප්රවාහය උණු කළ ලෝහයේ සංක්රමණයට ප්රයෝජනවත් වනු ඇත.
පසු කාලය: අගෝස්තු-20-2024
